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CY-PLZ180-I-DC-Q 半導(dǎo)體鍍膜磁控濺射儀，采用二級(jí)濺射方式，廣泛用于SEM樣品制備或金屬鍍膜試驗(yàn)。采用低溫等離子體濺射工藝，鍍膜過(guò)程中無(wú)高溫，不易產(chǎn)生熱損傷。

桌面型雙靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領(lǐng)域、光學(xué)領(lǐng)域、特殊陶瓷制備等領(lǐng)域均有應(yīng)用，也可實(shí)驗(yàn)室SEM樣品制備

過(guò)渡倉(cāng)磁控濺射鍍膜機(jī)帶過(guò)渡倉(cāng)可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等

四靶磁控濺射鍍膜儀帶過(guò)渡倉(cāng)可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等