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產(chǎn)品型號：CY-MSH500X-III-SS-I-LK廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家更新時間：2026-07-01訪 問 量：81產(chǎn)品分類CLASSIFICATION
詳細介紹
| 品牌 | CYKY | 價格區(qū)間 | 30萬-50萬 |
|---|---|---|---|
| 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) | 應用領域 | 生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,道路/軌道/船舶,鋼鐵/金屬,制藥/生物制藥 |
過渡倉磁控濺射鍍膜機可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等詳情介紹：
磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價比磁控濺射鍍膜設備，具有標準化、模塊化、可定制化的特點。磁控靶有1英寸2英寸3英寸4英寸可以選擇，客戶可以根據(jù)所鍍基板的大小自主選購；所配電源為500W直流電源和500W射頻電源，直流電源可用于金屬薄膜的制備，射頻電源可用于非金屬膜的制備，四個靶可以滿足多層或者多次鍍膜的需要。若客戶有其他鍍膜需要，可以定制其他射頻電源和脈沖電源，各型電源均有300W到1000W多種規(guī)格可選.
設備具有主腔室和過渡艙兩部分，過渡艙配有磁力推桿，兩個艙室之間裝有真空閘板閥；用戶可以在主腔室進行濺射工作的同時，在過渡艙裝填樣品，并進行真空預抽，待主腔室濺射完成后即可將樣品通過磁力推桿推入主腔室的樣品臺。這樣的設計能夠減少主腔室抽放真空的次數(shù)，不僅能有效節(jié)省時間，更能保證更好的本地真空，有效提高鍍膜質(zhì)量
磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設備相比，其不僅應用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點，是一款實驗室制備材料薄膜的理想設備高真空環(huán)境，整個蒸發(fā)過程在高真空環(huán)境中進行，確保了蒸發(fā)原子或分子直接到達基板，避免了空氣中雜質(zhì)的污染，提高了薄膜的質(zhì)量。高真空條件還有助于減少蒸發(fā)材料的氧化，進一步提升了薄膜的純度和性能。
過渡倉磁控濺射鍍膜機技術參數(shù):
產(chǎn)品名稱 | 帶樣品傳遞倉磁控濺射鍍膜機 |
產(chǎn)品型號 | CY-MSH500X-III-2DCRF-SS-I-LK |
輸入電源 | 單相交流 220V、50Hz |
樣品臺 | 尺寸：直徑 150mm 加熱溫度：室溫～500℃ 旋轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)速：1~20 轉(zhuǎn) / 分鐘可 |
磁控濺射靶槍 | 配三支兩英寸磁控靶， 靶材尺寸:直徑50.8mm，厚度≦3mm 角度可調(diào)范圍：-45°~45° |
高真空腔體 | 腔體材質(zhì)：304 不銹鋼內(nèi)壁 尺寸：直徑 500×500mm 觀察窗：直徑 100mm（帶遮光擋板） 開門方式：前開門， 氣缸輔助支撐冷卻方式：水冷 |
氣路控制系統(tǒng) | 雙通道質(zhì)量流量控制器（MFC） 氧氣通道：量程 0~200sccm 氮氣通道：量程 0~200sccm |
直流電源 | 1000W 1套 |
射頻電源 | 500W 2 套 |
樣品傳遞倉（Load Lock） | 腔體最大適配 4 英寸晶圓 |
真空系統(tǒng) - 前級泵 | 1 臺雙級旋片真空泵抽氣速率：4 升 / 秒 |
真空系統(tǒng) - 分子泵 | 抽氣速率：1200 升 / 秒 |
真空系統(tǒng) - 真空計 | 復合真空計 |
膜厚監(jiān)測儀 | 通常配CYKY膜厚測量儀 |
控制系統(tǒng) | PLC 全自動控制操作界面 |
功率 | 5KW |
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