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雙靶磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比，其不僅應(yīng)用廣泛，且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn)，是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備

桌面型雙靶磁控鍍膜儀。設(shè)備經(jīng)過小型化設(shè)計(jì)，在保留高真空不銹鋼腔體的同時，精簡了其他機(jī)構(gòu)，將設(shè)備外形限制在了桌面級別，大大減少了安裝場地需求。設(shè)備配有一個直流電源一個射頻電源，直流靶可用于金屬及其他導(dǎo)電材料的濺射，射頻電源可用于各種非金屬和金屬氧化物等的濺射。設(shè)備真空系統(tǒng)采用全進(jìn)口真空泵，抽氣速度快，極限真空度高，真空性能優(yōu)異。本設(shè)備結(jié)構(gòu)緊湊功能*便于使用，非常適合用于各類鍍膜試驗(yàn)。

大功率直流磁控濺射鍍膜儀是一款高功率臺式磁控等離子濺射鍍膜機(jī) ，帶有一個水冷2英寸靶頭，冷水機(jī)和可旋轉(zhuǎn)樣品架。直流磁控濺射鍍膜儀設(shè)計(jì)用于涂覆直徑達(dá)4英寸的所有金屬薄膜， 包括Zn、Al、Ti和碳光膜，價(jià)格合理。包含一個Al 目標(biāo)以供立即使用。

本單靶磁控濺射鍍膜儀配有一套磁控靶、一套300W的RF濺射電源(或一套500W的直流濺射電源或一套100W的偏壓電源）。磁控濺射鍍膜儀在鍍膜時，可根據(jù)需要分別手工連接至直流濺射電源、偏壓電源及RF濺射電源。

三靶磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研制開發(fā)的一款性價(jià)比較高的磁控濺射鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜、氧化物薄膜、硬質(zhì)薄膜、聚四氟乙烯薄膜等。

雙靶磁控濺射鍍膜儀CY-600-2HD為我公司研發(fā)的配有兩個靶位的小型實(shí)驗(yàn)室用鍍膜儀，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜、半導(dǎo)體薄膜、陶瓷薄膜、介質(zhì)薄膜、光學(xué)薄膜等。與同類設(shè)備相比，這款磁控濺射鍍膜儀不僅應(yīng)用廣泛，切體積小便于操作，是一款實(shí)驗(yàn)室制備薄膜的理想設(shè)備。