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磁控濺射鍍膜儀帶振動樣品臺為我公司研發(fā)的配有三個靶位的實驗室專用于處理粉末及顆粒樣品的鍍膜儀，設備配有兩臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等

臺式緊湊型三靶磁控濺射鍍膜儀是專為非金屬薄膜鍍膜設計的三頭2“射頻等離子磁控濺射系統(tǒng)，主要用于多層氧化物薄膜，是新一代氧化物薄膜研究中性價比*高的鍍膜機 . 直流磁控濺射選項可根據要求提供金屬薄膜沉積，實現三個直流、一個射頻/兩個直流和兩個射頻/一個直流濺射頭配置

臺式射頻電源單靶磁控濺射鍍膜儀，可用于金屬薄膜的制備，在電子領域、光學領域、特殊陶瓷制備等領域均有應用，也可實驗室SEM樣品制備。本型號配備射頻電源，尤其適合非金屬或其他非導電材料鍍膜

?雙靶DCRF磁控濺射鍍膜儀配有一臺直流電源，一臺射頻電源，可用于制備單層或多層鐵電薄膜、導電薄膜、合金薄膜、半導體薄膜、陶瓷薄膜、介質薄膜、光學薄膜等往復式設計，?磁控濺射鍍膜儀（往復樣品臺）的樣品臺采用往復式設計，左側配有磁力耦合推桿，可將樣品臺左右推動。

磁控濺射鍍膜儀主要由進樣室、濺射室、出樣室、基片傳遞機構、抽氣及真空測量系統(tǒng)、氣路系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、安裝機臺等部分組成。此外,CY-in-line磁控濺射升級后，可達到5室結構進樣室、三個獨立的濺射室、出樣室；增加射頻電源，提供制備介質膜的功能，并能實現連續(xù)鍍膜。

單室磁控濺射鍍膜儀主要由濺射真空室、磁控濺射靶、基片水冷加熱臺、工作氣路、抽氣系統(tǒng)、真空測量、電控系統(tǒng)及安裝機臺等部分組成。磁控濺射鍍膜儀可廣泛應用于大專院校、科研院所的薄膜材料科研與小批量制備。